涂布模頭準(zhǔn)確控制，有以下步驟：

設(shè)置模頭高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，用以調(diào)整涂布模頭的高度位置；在涂布模頭或涂布平臺上設(shè)置距離測量儀，用以測量涂布模頭與涂布平臺的距離；根據(jù)應(yīng)用環(huán)境設(shè)定一預(yù)設(shè)高度值、一預(yù)設(shè)偏差值；距離測量儀測定涂布模頭與涂布平臺的距離；將預(yù)設(shè)高度值與距離進(jìn)行比較，并根據(jù)預(yù)設(shè)高度值通過模頭高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)整涂布模頭的高度；距離測量儀實時測定涂布模頭與涂布平臺的距離；根據(jù)預(yù)設(shè)高度值及預(yù)設(shè)偏差值獲得高度值范圍，當(dāng)實時測定的距離偏移高度值范圍時，實施涂布模頭高度向預(yù)設(shè)高度范圍的閉環(huán)調(diào)整。

基于擠壓式涂布方法對涂布薄膜厚度和厚度均勻性的高度可控制性特點(diǎn)，擠壓式涂布方式被廣泛應(yīng)用于新型薄膜太陽能電池、新型顯示材料、光學(xué)功能膜、環(huán)保滲透膜等新型行業(yè)領(lǐng)域。隨著新型行業(yè)功能薄膜物化特質(zhì)的要求和薄膜高性能化要求，涂布薄膜厚度及厚度均勻性需要更高程度的控制。

一般而言，涂布薄膜的質(zhì)量(厚度和均勻性)受涂布設(shè)備和涂布條件的影響，除機(jī)加工設(shè)備部件精度影響以外，模頭高度控制和涂布速度控制對膜質(zhì)影響為顯著。

在擠壓式平板涂布過程中：樣片輸送、模頭下降、涂布(涂布完成)、模頭上升，涂布模頭在涂布過程中要受到傳動，涂布模頭機(jī)械調(diào)整也造成高度位置偏差，長時間工作，會造成更大的累計偏差，從而造成涂布薄膜厚度的不均勻。采用上述優(yōu)選的方案，在涂布過程中，直接利用距離測量儀測定涂布模頭到涂布平面的距離，并通過閉環(huán)控制完成涂布模頭的實時調(diào)整，這樣可以大大減少因為涂布模頭高度位置變化而造成涂布薄膜的影響，以獲得厚度均勻一致的高質(zhì)量薄膜。